Hledej
Zobraz:
Univerzity
Kategorie
Rozšířené vyhledávání
12 659 projektů
0 nových
Výroba polovodičů
«»
| Přípona |
Typ prezentace |
Stažené 2 x |
| Velikost 0,3 MB |
Jazyk český |
ID projektu 6108 |
| Poslední úprava 06.07.2015 |
Zobrazeno 1 552 x |
Autor: agata.kucova |
Sdílej na Facebooku |
||
| Detaily projektu | ||
- Cena:
2 Kreditů - kvalita:
85,8% -
Stáhni
- Přidej na srovnání
- Univerzita:České vysoké učení technické v Praze
- Fakulta:Fakulta elektrotechnická
- Kategorie:Technika » Technologie
- Předmět:Výkonové součástky a technologie
- Studijní obor:-
- Ročník:2. ročník
- Formát:PDF dokument (.pdf)
- Rozsah A4:15 stran
Výroba polovodičů
Výroba monokrystalů křemíku
Integrované obvody jsou vytvářeny na substrátech z monokrystalického křemíku. Základními požadavky na tento materiál, kromě řady dalších, jsou vysoká čistota a minimální počet krystalových poruch.
Monokrystalický křemík je užíván pro technologii VLSI (Very Large Scale Integration) namísto polykrystalického křemíku zejména proto, protože zde nejsou poruchy spojené s hranicemi zrn v polykrystalickém křemíku. Takovéto poruchy omezují dobu života minoritních nosičů, což je další z významných parametrů, které určují vlastnosti a kvalitu součástky.
Požadované vlastnosti monokrystalů křemíku pro potřeby VLSI technologie:
- Vysoký stupeň chemické čistoty.
- Minimální počet poruch krystalu.
- Vysoká homogenita krystalu.
Základní kroky pro výrobu monokrystalu s výše uvedenými vlastnostmi jsou:
- Zpracování základního materiálu do vysoké čistoty v polykrystalické formě s použitím vícestupňového čisticího procesu.
- Růst monokrystalu z této formy s použitím buď Czochralski-ho růstu, nebo zonální rafinace.
Výroba monokrystalů křemíku
Integrované obvody jsou vytvářeny na substrátech z monokrystalického křemíku. Základními požadavky na tento materiál, kromě řady dalších, jsou vysoká čistota a minimální počet krystalových poruch.
Monokrystalický křemík je užíván pro technologii VLSI (Very Large Scale Integration) namísto polykrystalického křemíku zejména proto, protože zde nejsou poruchy spojené s hranicemi zrn v polykrystalickém křemíku. Takovéto poruchy omezují dobu života minoritních nosičů, což je další z významných parametrů, které určují vlastnosti a kvalitu součástky.
Požadované vlastnosti monokrystalů křemíku pro potřeby VLSI technologie:
- Vysoký stupeň chemické čistoty.
- Minimální počet poruch krystalu.
- Vysoká homogenita krystalu.
Základní kroky pro výrobu monokrystalu s výše uvedenými vlastnostmi jsou:
- Zpracování základního materiálu do vysoké čistoty v polykrystalické formě s použitím vícestupňového čisticího procesu.
- Růst monokrystalu z této formy s použitím buď Czochralski-ho růstu, nebo zonální rafinace.
Klíčová slova:
polovodiče
monokrystály
pěstování
homogenita
výroba
Obsah:
- Výroba monokrystalů křemíku
Pěstování monokrystalů Czochralski-ho technikou (technikou CZ)
Pěstování monokrystalů technikou plovoucí zóny (technikou FZ)
Porovnání techniky CZ a FZ pro pěstování monokrystalů
Zpracování monokrystalických křemíkových roubíků - výroba křemíkových desek